GDZT-50-200-30加熱冷卻循環裝置的詳細資料

加熱冷卻循環裝置能夠提供冷源和熱源的循環裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業，為反應釜、反應槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。

GDZT-50-200-30加熱冷卻循環裝置性能特點
1、分三個系統：制冷系統、加熱系統、預冷系統，三個系統可連續使用，也可分別單獨使用。
2、快速加熱和冷卻，可連續升降溫。
3、溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質，導熱介質消耗少。
4、全封閉循環系統，高溫時導熱流體不易揮發和氧化，低溫下不易吸入空氣中的水分，可延長導熱流體的使用壽命。
5、高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。
6、制冷換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
7、液位顯示功能，隨時監控液位，避免缺液。
8、高溫切斷、急停、延時、漏電、過電流、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。
9、冷凝、預冷方式為風冷，節約水資源。
功能優點
1、智能型溫度控制。
2、溫度控制穩定性好。
3、加熱和制冷速度快，可連續升降溫。
4、全密閉循環系統，延長導熱油使用壽命。
5、采用磁力驅動泵，整個溫度范圍內實現零泄漏。
6、溫度范圍寬。
7、故障報警功能。
8、具有延時、過熱、過電流保護功能。
9、液位顯示功能，跟蹤監控膨脹箱內液位。
控制優點
1、模糊運算和PID主動演算功能控溫精度高，可達到±0.5℃。
2、有預約功能，可設定設備自動運行時間。
3、有待機功能（控制溫度），可以準確控制實驗有效時間。
4、兩種控制方式（定值/程式）。
5、可顯示密閉制冷加熱循環裝置聯用負載的溫度變化曲線。
6、程式編程：可編50組程式，每組程式大為100段。
7、通訊接口。

典型應用
1、化工、制藥或生物領域雙層及三層反應釜的溫度控制。
2、攪拌罐的溫度控制。
3、材料測試中的應用。
4、蒸餾系統的溫度控制。
5、工藝過程中的溫度變化模擬控制。
6、恒溫控制系統。
7、半導體設備的溫度控制。
8、汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
9、真空室的溫度控制。
GDZT-50-200-30加熱冷卻循環裝置技術參數：